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真空泵廠家分析如何優化真空壓力控制系統

  真空泵廠家分析如何優化真空壓力控制系統。真空泵廠家分析如何優化真空壓力控制系統。芯片蝕刻工藝通常在受控的真空環境中工作。反應空腔的功能是去除真空環境中保持工藝參數所需的不必要的水蒸氣、空氣和額外的反應物質。為等離子體發生反應創建能夠的真空環境。為了降低蝕刻機真空壓力控制系統的成本,實現高真空獲取設備的清潔、簡化和小型化,同時為了提高真空系統的抽真空率和極限真空,系統中腔體、真空泵、連接管道和閥門的選擇非常重要。

  為了確保蝕刻工藝所需的蝕刻機壓力的穩定運行,大泵速真空系統是要求小于不可的組成部件。真空泵廠家詳細介紹了真空泵的反應室、選擇、真空閥的選擇、真空計和真空檢測開關、真空計和真空檢測開關以及連接管道。

  真空泵廠家分析如何優化真空壓力控制系統。從以下五個方面展開:

  (1)反應腔

? ? ? ?反應腔是真空系統的基本部件。不同的蝕刻反應腔具有不同的形狀和尺寸,但是所有的屬于容器都處于負壓下。為了增加芯片容量,反應腔體采用多工位設計,要求真空泵的泵速滿足其要求。在多工位設計中,很難保證多工位芯片的一致性。真空泵的泵送速率必須增加。分子泵是最好的選擇。根據不同工藝的需要,反應室壓力一般的工作在10-3-10-2托之間。確保反應室的真空度和壓力、確保、反應室在穩定真空下的工作一直是真空泵廠家的研究課題。

  (2)真空泵選擇

  真空泵是獲得真空的關鍵設備。到目前為止,還沒有一種泵能從大氣壓工作到接近超真空。兩個或多個泵必須組合使用和螺旋干式泵屬于容積泵類型。其工作循環可分為吸入、壓縮和排出三個過程。其優點結構穩定,重心低,轉動穩定,振動小,噪音低。分子泵包括牽引分子泵、渦輪分子泵和復合分子泵等。分子泵的選擇根據蝕刻反應空腔壓力和體積而變化。

  (3)真空閥選用選擇擺閥是為了滿足分子泵大口徑尺寸的需要。當擺閥的開度大于反應室的壓力時,其將減小。然而,當開口大于某個程度時,反應室的真空將由于泵的有限泵送速度而受到限制,并且壓力的真空將降低為不能繼續。因此,為了滿足壓力蝕刻工藝中的要求,需要正確打開選擇擺閥。

  (4)真空計和真空檢測開關

  真空計可以隨時監控管道的反應室和壓力。真空計安裝在反應室和管道上。當真空度達到一定值時,真空閥打開或關閉。真空計分類方法主要有兩種:①根據真規讀數的標度方法進行分類,即絕對真空計和相對真空計;(2)根據真空計的測量原理進行分類,即直接測量真空計和間接測量真空計。薄膜電容真空計是一種間接絕對真空計。具有因其性能穩定、重復性好、響應速度快、抗過載能力強、結構牢固、使用方便而被廣泛應用于工業中。出于安全原因,真空管道必須配備大氣真空開關。當壓力值達到一個大氣壓時,真空開關將自動打開排氣口,以保護反應腔和管道系統的真空儀器。

  (5)連接管

  真空系統最重要的性能參數是它能獲得的極限真空度和反應腔的有效泵送速度。真空系統的極限真空度是指在泵送時間足夠長的時間而沒有額外負載后,系統能夠達到的最低真空度壓力。

  進口真空泵廠家表示,現象對于任何真空系統都絕對無泄漏,能夠實現不可,因此需要在真空管路上提供檢漏口,以方便真空檢漏。

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